高低溫循環裝置是實驗室及工業中用于為外部設備提供寬范圍溫度控制循環液的核心設備，可實現-80℃至200℃的精準控溫，兼具加熱與制冷功能，替代傳統“單一加熱"或“單一制冷"設備。

核心工作原理

1. 雙向控溫：通過內置的壓縮機制冷系統實現低溫控制，通過電加熱管實現高溫控制，兩者協同工作，根據設定溫度自動切換或調節功率。

2. 循環控溫：內置循環泵將恒溫后的導熱介質（如導熱油、防凍液）輸送至外部設備（如反應釜、儀器模塊），吸收或釋放熱量后回流，形成閉環循環；搭配PID智能控制系統，控溫精度可達±1

關鍵特點

- 控溫范圍寬：覆蓋深冷到高溫區間，無需頻繁更換設備，可滿足同一實驗從低溫反應到高溫蒸餾的全程控溫需求。

- 升溫降溫快：采用高效換熱結構與大功率加熱/制冷組件，升降溫速率可達5℃/min~15℃/min（視型號而定），縮短實驗準備時間。

- 安全性能強：標配超溫報警、過載保護、低液位保護（防干燒），部分型號帶壓力保護與漏電保護，適配高壓反應場景。

典型應用

- 為雙層玻璃反應釜、高壓反應釜提供全程控溫，適配聚合反應、催化反應等需頻繁切換溫度的實驗。

- 為材料測試設備、電子元件測試臺提供模擬高低溫環境，驗證產品耐溫性能。

- 為制藥行業的結晶工藝、蒸餾工藝精準控溫，提升產物純度與收率。